配備防污染系統(tǒng)
提高樣品鍍膜效果
?一鍵式操作自動(dòng)完成鍍膜全過(guò)程 ?內(nèi)置常用靶材參數(shù)一鍵調(diào)用，方便快捷 ?一體成型真空室更優(yōu)真空性能 主要參數(shù) 外形尺寸 278(L)×494(H)×467(D) mm 濺射靶頭 平面磁控冷濺射靶頭 靶材尺寸 Φ50mm，厚度支持0.1-2mm 可用靶材 所有金屬、導(dǎo)電材料等靶材 工作電流 1-200mA可調(diào)（步長(zhǎng)：1mA） 鍍膜時(shí)間 1-9999s可調(diào)（步長(zhǎng)：1s） 真空泵 旋片泵（可選干泵）+分子泵 主真空泵抽速 90L/s 真空室 170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室 極限真空 ≤5×10-3Pa 工作介質(zhì) 高純氬氣 工作真空 0.5-1Pa可調(diào) 供電 AC220V/50Hz 額定功率 ＜800W 預(yù)濺射 全自動(dòng)預(yù)濺射清潔功能，配合預(yù)濺射擋板，防止樣品污染、提高鍍膜純度 樣品臺(tái) Φ80mm，支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能 其它 真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示
?極限真空優(yōu)于5E-3Pa滿足大部分場(chǎng)景需求
?配備防污染系統(tǒng)提高樣品鍍膜效果
?鍍膜過(guò)程樣品溫升少適用范圍更廣
