磁控濺射，薄膜顆粒更小
滿足高分辨率看樣需求
?一鍵鍍膜，全自動操作
?鍍膜過程樣品無溫升滿足生物等溫度敏感
材料的鍍膜需求
?磁控濺射，薄膜顆粒更小滿足高分辨率看樣需求
?液晶觸摸屏，工作參數(shù)實時查看
?抽氣效率高2分鐘內(nèi)開始鍍膜
?支持Au/Pt/Ag靶材
主要參數(shù) | |||
外形尺寸 | 245(L)×270(H)×360(D) mm | 顯示屏 | 5 英寸觸摸屏、全數(shù)字顯示 |
可用靶材 | Au、Pt、Ag | 靶材尺寸 | Φ38mm，厚度支持0.1-2mm |
工作電流 | 1-35mA可調 | 鍍膜時間 | 1-9999s可調 |
真空泵 | 旋片式真空泵（可選干泵） | 真空泵抽速 | 1.1L/s |
真空室 | φ100×80mm 高強度玻璃 | 極限真空 | ≤0.5Pa |
工作介質 | 氬氣或氮氣（空氣） | 工作真空 | 1-20Pa可調 |
供電 | AC220V/50Hz | 額定功率 | 500W |
樣品臺 | Φ80mm，可放置14個標準樣品座，與靶材距離20-45mm可調節(jié) | ||
其它 | 真空度、工作電流實時顯示 | ||
