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INS-11MC磁控濺射鍍膜儀
    發(fā)布時(shí)間: 2026-01-28 10:35    

一鍵鍍膜,全自動(dòng)操作


INS-11MC磁控濺射鍍膜儀


INS-11MC

 

                                                               ?一鍵鍍膜,全自動(dòng)操作

                                                      ?7寸觸摸屏,工作參數(shù)實(shí)時(shí)查看

                                                      ?鍍膜過(guò)程樣品無(wú)溫升適用范圍更廣

                                                      ?抽氣效率高2分鐘內(nèi)開(kāi)始鍍膜

                                                      ?磁控濺射,薄膜顆粒更小滿(mǎn)足
                                                               高分辨率看樣需求

                                                      ?標(biāo)配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)薄膜均勻性更好


主要參數(shù)

外形尺寸

330(L)×300(H)×370(D) mm

顯示屏

7 英寸觸摸屏、全數(shù)字顯示

可用靶材

Au、Pt、Cu、Ag、Pd等

靶材尺寸

Φ50mm,厚度支持0.1-2mm

工作電流

1-50mA可調(diào)

鍍膜時(shí)間

1-9999s可調(diào)

真空泵

旋片式真空泵(可選干泵)

真空泵抽速

1.1L/s

真空室

φ130×100mm 高強(qiáng)度玻璃

極限真空

≤0.5Pa

工作介質(zhì)

氬氣或氮?dú)猓諝猓?/span>

工作真空

1-20Pa可調(diào)

供電

AC220V/50Hz

額定功率

500W

樣品臺(tái)

Φ80mm,可放置14個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品座,與靶材距離20-45mm可調(diào)節(jié),標(biāo)配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

其它

真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線(xiàn)顯示