滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備
及透射電鏡碳膜制備需求
?磁控濺射+熱蒸發(fā)鍍碳雙功能 主要參數(shù) 外形尺寸 278(L)×494(H)×467(D) mm 供電要求 AC220V/50Hz ＜1000W 濺射靶材 Φ50mm，厚度0.1-2mm 可用靶材 所有金屬、導(dǎo)電材料等 工作電流 1-200mA可調(diào)（步長：1mA） 鍍膜時(shí)間 1-9999s可調(diào)（步長：1s） 蒸發(fā)源 高純碳纖維 蒸發(fā)模式 閃斷模式、脈沖模式 真空室 170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室 極限真空 ≤5×10-3Pa 真空泵 旋片泵（可選干泵）+分子泵 主真空泵抽速 90L/s 預(yù)濺射 全自動(dòng)預(yù)濺射系統(tǒng)，防止樣品污染及組件污染、提高鍍膜純度 樣品臺(tái) Φ80mm，支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能 其它 真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示
?滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求
?多功能樣品臺(tái)支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能
?雙功能一鍵切換一鍵鍍膜，全自動(dòng)操作
?雙組件均配備防污染系統(tǒng)有效保護(hù)鍍膜組件
?進(jìn)口分子泵極限真空優(yōu)于5E-3Pa
