型號(hào)：AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）
一款市面上體積最小的原子層沉積系統(tǒng)ALD
一款適用于科研的經(jīng)濟(jì)型原子層沉積系統(tǒng)ALD
一款最經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的原子層沉積系統(tǒng)ALD
可做粉末的原子層沉積系統(tǒng)ALD
一款可以放入手套箱里的原子層沉積系統(tǒng)ALD
特別適合在高真空和水氧量極低環(huán)境下使用
技術(shù)參數(shù)：
l 尺寸（L*W*H）：35.5*38.1*56.8cm
l 粉末涂層可選(容量可達(dá)～10cm^3)
l 可放置2英寸x2英寸x3英寸或兩個(gè)2英寸圓片的樣品 (可定制的卡盤和我們的粉末涂層選項(xiàng))
l 2個(gè)前驅(qū)體端口，4個(gè)可選端口 (帶有高達(dá)150℃的熱追蹤線，HT套件至180℃)
l 可升級(jí)為空心陰極等離子體(可選)
l 通風(fēng)前驅(qū)體外殼
l 耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進(jìn)行集成惰性氣體吹掃-標(biāo)配
l 全不銹鋼腔室，溫度范圍可達(dá)300°C
l 靜態(tài)處理模式下可實(shí)現(xiàn)高覆蓋
l 帶集成PLC控制的5英寸顯示屏
l 包括終身軟件升級(jí)
l 1年保修
可選項(xiàng):真空泵，4個(gè)端口，臭氧發(fā)生器(AT-03)，瓶加熱器，QCM，遠(yuǎn)程PC控制，ALD前驅(qū)體，手套箱，HT套件（前驅(qū)體至180℃），起泡器，粉末噴涂機(jī)，HC等離子體等。
典型用戶:
該ALD設(shè)備客戶遍布世界各地，其中包含ALD業(yè)內(nèi)的國際專家，他們都是ALD會(huì)議委員會(huì)的著名成員
Sean Barry, Dennis Haussman, Mikko Ritala，Anjana Devi，Stacey Brent等
其中Mikko Ritala 每年發(fā)表很多ALD的文章，他來自于ALD的發(fā)源地，赫爾辛基大學(xué)
詳情可以聯(lián)系我們咨詢。
我們的 ALD 咨詢服務(wù)
薄膜沉積服務(wù)
我們能夠?qū)⒏鞣N各樣的材料沉積在您的樣本上。
工藝問題解除服務(wù)
我們能夠?yàn)楸∧ず图{米技術(shù)工藝、工藝整合以及器件性能提供廣泛的技術(shù)支持。當(dāng)有需求時(shí)，我們會(huì)根據(jù)員工的豐富經(jīng)驗(yàn)、深入的文獻(xiàn)研究、理論建模以及直接實(shí)驗(yàn)來提供報(bào)告和建議。
雖然我們的專長在于原子層沉積技術(shù)(ALD)，但我們也參與了多個(gè)項(xiàng)目，這些項(xiàng)目通常屬于半導(dǎo)體加工和納米技術(shù)研究與開發(fā)的范疇。
我們?cè)鵀槌鮿?chuàng)企業(yè)開發(fā)了新型設(shè)備，并為大學(xué)實(shí)驗(yàn)室以及一些大型企業(yè)開發(fā)了新的材料。
市場(chǎng)分析與技術(shù)評(píng)估
我們可以為相關(guān)領(lǐng)域的企業(yè)和學(xué)術(shù)界提供針對(duì)某一特定原子層沉積技術(shù)在市場(chǎng)中的應(yīng)用趨勢(shì)的深入分析，同時(shí)也能對(duì)現(xiàn)有及新興的原子層沉積相關(guān)科學(xué)的研究與開發(fā)現(xiàn)狀進(jìn)行評(píng)估。
